波長1521nm激光器用于乙炔檢測C2H2

激光氣體檢測原理：TDLAS, TDLAS是Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy的簡稱, 即：可調(diào)諧半導體激光吸收光譜

封裝形式：14針蝶形封裝，TO39，TO56封裝,  DX-1模塊(帶電路驅(qū)動器和溫控驅(qū)動）

品牌：愛爾蘭Eblana

供應商：深圳市利拓光電有限公司

供貨周期: 4-6周

1521nm激光器用于乙炔檢測C2H2 EP1521-0-DM-B06-FA  – C2H2乙炔檢測

• 該區(qū)域的常用波長: 1521nm

• 優(yōu)良穩(wěn)定的光譜性能

• 整體式無外腔設計

• 可由溫度或電流調(diào)節(jié)中心波長 調(diào)節(jié)范圍: +/-1nm

• 對機械振動的敏感性低

可提供波長及應用：

2332nm - 一氧化碳(CO)

2327nm - 一氧化碳(CO)

2121.5nm - 笑氣 N2O

2121.8nm - 氫氣 H2

2122nm - 笑氣 N2O

2051nm - 二氧化碳(CO2)

2020nm FP 激光二極管

2004nm - 二氧化碳(CO2)

1981nm - 氨氣(NH3)

1950nm - 激光器(量子通信、醫(yī)療設備)

1877nm - 水分子(H2O)

1854nm - 水分子(H2O)

1742nm - 氯化氫(HCl)

1683nm – 乙烷 C2H6

1680nm – 乙烷 C2H6

1654nm - 甲烷(CH4)

1651nm - 甲烷(CH4)

1590nm - 硫化氫(H2S)

1578nm - CO / CO2

1574.5nm - 硫化氫(H2S)

1572nm – 二氧化碳CO2

1573.3nm -二氧化碳CO2

1566nm - 一氧化碳(CO)

1550nm - 窄線寬激光器

1531nm - 氨氣(NH3)

1521nm - 乙炔 C2H2

1512.2nm - 氨氣(NH3)

1398nm -水分子(H2O)

1392.5nm - 水分子(H2O)

1343.5nm - 水分子(H2O)

1278nm - 氟化氫(HF)

1273nm - 氟化氫(HF)

780nm - 激光器

760nm - 氧氣(O2)

TDLAS（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy，可調(diào)諧二極管激光吸收光譜）技術是一種高精度、高靈敏度的氣體檢測方法，廣泛應用于環(huán)境監(jiān)測、工業(yè)過程控制、醫(yī)療診斷等領域。以下是其核心要點：

1. 基本原理

• 選擇性吸收：氣體分子在特定波長（對應其能級躍遷）會吸收激光能量，吸收強度與氣體濃度相關（比爾-朗伯定律）。

• 波長調(diào)制：通過微調(diào)二極管激光器的波長（通常±納米量級），掃描目標氣體的吸收譜線，消除背景干擾。

2. 關鍵技術特點

• 高靈敏度：可檢測ppm（百萬分之一）甚至ppb（十億分之一）級濃度。

• 實時響應：毫秒級動態(tài)監(jiān)測，適合快速變化的過程。

• 非接觸測量：無需采樣，直接原位檢測（如煙道、管道）。

• 抗干擾能力強：通過二次諧波檢測（2f-WMS）抑制噪聲，提升信噪比。

3. 系統(tǒng)組成

• 可調(diào)諧二極管激光器：發(fā)射窄線寬激光（如DFB激光器）。

• 氣體吸收池：開放路徑或密閉氣室（多反射池可增加光程）。

• 光電探測器：接收衰減后的激光信號。

• 信號處理模塊：解調(diào)吸收信號，計算濃度。

4. 典型應用

• 工業(yè)排放監(jiān)測：CH4、NH3、CO2、CO、C2H2、C2H4、C2H6、SO?、NOx、HCl、HF等氣體。

• 能源安全：天然氣管道泄漏檢測（CH?）。

• 醫(yī)療呼吸分析：呼氣中CO、NO標志物檢測。

• 航天與科研：火星車大氣成分分析（如Curiosity Rover）。

5. 優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

• 優(yōu)勢：

• 無需預處理樣品，減少誤差。

• 可同時測量多種氣體（多激光器組合）。

• 挑戰(zhàn)：

• 高成本（精密激光器與光學元件）。

• 復雜環(huán)境中交叉干擾（需精確譜線篩選）。

6. 發(fā)展趨勢

• 多氣體集成：多波長激光陣列或超連續(xù)譜激光器。

• 小型化與便攜化：MEMS激光器、片上集成光學。

• 人工智能輔助：光譜數(shù)據(jù)深度學習，提升反演精度。

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TDLAS因其優(yōu)秀的性能，已成為痕量氣體檢測的主流技術之一，尤其在苛刻環(huán)境（高溫、高壓、腐蝕性）中不可替代。